大手産業機械メーカーでの半導体製造装置(CMP)の製品開発及び次世代技術開発の求人
求人ID:1252181
募集継続中
転職求人情報
職種
半導体製造装置(CMP)の製品開発及び次世代技術開発
ポジション
担当者〜
年収イメージ
550万円〜730万円
仕事内容
【概要】
・CMP装置に係わる、製品開発及び次世代向け基礎技術の開発業務(計画立案、試験・分析)
・海外拠点との連携による客先との仕様検討・技術折衝
・製品納入後のサポート(改善・改良点の吸い上げ等)
※顧客が海外の場合も多い為、必要に応じて、海外客先への出張業務も担当いただきます。
【採用背景】
次世代デバイスに対するCMPへの要求事項は更に厳しくかつ多種多様になっており、顧客要求に対し、タイムリーに新技術を提供していく必要があります。よって、今後の事業拡大のための開発力強化へ向けた募集となっております。
【キャリアイメージ】
配属後、数年間はまず、CMP装置に係わる研磨・洗浄・乾燥技術の開発業務及び顧客との技術折衝に携わっていただくことで、当社CMP装置及び顧客要求の理解を深めていただきます。その後は開発テーマのリーダーとして、担当開発テーマの開発を推進する役割を担っていただきたいと考えております。
【当部門の役割・業務概要】
当カンパニーの主力製品の一つであるCMP装置では、半導体ウェーハの研磨・洗浄・乾燥を行っております。当部門では、CMP装置に係わる新要素技術の開発及び次世代向けの基礎技術開発を行っております。また、新技術の顧客に対するデモンストレーションや、海外拠点と連携した客先との仕様検討・技術折衝も併せて行っております。※顧客が海外の場合も多い為、海外出張も発生いたします。
・CMP装置に係わる、製品開発及び次世代向け基礎技術の開発業務(計画立案、試験・分析)
・海外拠点との連携による客先との仕様検討・技術折衝
・製品納入後のサポート(改善・改良点の吸い上げ等)
※顧客が海外の場合も多い為、必要に応じて、海外客先への出張業務も担当いただきます。
【採用背景】
次世代デバイスに対するCMPへの要求事項は更に厳しくかつ多種多様になっており、顧客要求に対し、タイムリーに新技術を提供していく必要があります。よって、今後の事業拡大のための開発力強化へ向けた募集となっております。
【キャリアイメージ】
配属後、数年間はまず、CMP装置に係わる研磨・洗浄・乾燥技術の開発業務及び顧客との技術折衝に携わっていただくことで、当社CMP装置及び顧客要求の理解を深めていただきます。その後は開発テーマのリーダーとして、担当開発テーマの開発を推進する役割を担っていただきたいと考えております。
【当部門の役割・業務概要】
当カンパニーの主力製品の一つであるCMP装置では、半導体ウェーハの研磨・洗浄・乾燥を行っております。当部門では、CMP装置に係わる新要素技術の開発及び次世代向けの基礎技術開発を行っております。また、新技術の顧客に対するデモンストレーションや、海外拠点と連携した客先との仕様検討・技術折衝も併せて行っております。※顧客が海外の場合も多い為、海外出張も発生いたします。
必要スキル
【採用要件】
【必須】
・プロセス開発の試験業務(計画、試験、分析)の経験をお持ちの方
・プロセス開発におけるリーダー経験をお持ちの方(管理職でなくても構いません)
【歓迎】
・CMP装置を使用した業務の経験をお持ちの方。
・半導体装置のメーカー、またはデバイスメーカにおいて、プロセス、またはフィールドエンジニアの経験をお持ちの方。
【求める人材】
・困難な課題に対して、積極的に取り組める方
・試験結果に対して、客観的な視点での分析が可能な方
・他部門・海外拠点とのコミュニケーションを円滑に進められる方
【必須】
・プロセス開発の試験業務(計画、試験、分析)の経験をお持ちの方
・プロセス開発におけるリーダー経験をお持ちの方(管理職でなくても構いません)
【歓迎】
・CMP装置を使用した業務の経験をお持ちの方。
・半導体装置のメーカー、またはデバイスメーカにおいて、プロセス、またはフィールドエンジニアの経験をお持ちの方。
【求める人材】
・困難な課題に対して、積極的に取り組める方
・試験結果に対して、客観的な視点での分析が可能な方
・他部門・海外拠点とのコミュニケーションを円滑に進められる方
就業場所
就業形態
正社員
企業名
大手産業機械メーカー
企業概要
ポンプなど風水力機械が主力の世界的な産業機械メーカー
企業PR
業務カテゴリ
組織カテゴリ
備考
応募ありがとうございました。コンサルタントからご連絡します
応募出来ませんでした。恐れ入りますがもう一度やり直してください
気になるに登録しました
気になるに登録出来ませんでした。恐れ入りますがもう一度やり直してください
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