【茨城県】CMPスラリーの開発担当/大手化成メーカーの求人

研磨材料であるCMPスラリーメーカーとして、グローバルで存在感を確立し、技術力・安定力・成長力で業界トップを目指す企業でのポジションです。新製品開発と既存製品拡大を推進し、半導体の高性能化に寄与することで社会貢献を目指します。

CMPスラリーとは、半導体の表面を精密に平坦化するための研磨液です。CMP（化学機械研磨）プロセスで使われるスラリーは、化学反応と機械的研磨の両方を利用して、ウェーハ表面の凹凸を均すための重要な材料です。

本ポジションでは砥粒・添加剤を含めたCMPスラリーの組成開発や顧客対応を担当します。新製品開発から量産立ち上げまでの幅広いフェーズを担当しており、入社後はその中でも新製品開発を担当し、一定期間後には顧客への提案まで担当することを想定しています。その後はローテーションで量産対応なども担当する予定です。
半導体の最先端プロセスに近い立ち位置で、製品開発から量産・顧客提案まで一気通貫で関われるため、裁量とやりがいの大きいポジションです。

具体的な業務内容:
・砥粒や添加剤を含めたスラリー組成開発
・量産移管
・既存品の品質改善
・生産プロセス改善
・顧客対応

顧客対応について:
半導体メーカー等の顧客への説明や対応を担当します。コミュニケーション能力がある方や積極的に行動できる方を歓迎します。

【必須スキル】
・研究開発、製品開発、プロセス開発等の実務経験（アカデミックでの研究員等での経験も含む）

【歓迎スキル】
・半導体材料、CMP、スラリー、分散技術、添加剤設計に関する知見
・製造条件改善、歩留まり改善、品質改善などの実務経験
・統計解析やデータ分析を活用した開発経験

【求める人物像】
・主体性が高く、自ら課題を見つけて動ける方
・成果にこだわり、最後までやり切れる方
・柔軟性があり、変化の多い環境でも前向きに対応できる方

化学メーカー