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大手化成メーカーでのCMPの研磨機構解明、スラリの研究開発担当＜第二新卒歓迎＞の求人

求人ID:1408542

更新日:2025/05/08

転職求人情報

職種

CMPの研磨機構解明、スラリの研究開発担当

ポジション

担当者〜

おすすめ年齢

20代
30代
40代
50代以上

年収イメージ

500万円〜900万円

仕事内容

当研究部にて発足された新プロジェクトのメンバーとして、半導体の製造工程で使用されるCMPスラリの研究開発、研磨機構解明をお任せいたします。 CMPスラリの配合、 それを用いた研磨実験、 その結果の解析、 結果を踏まえた次の実験計画 実行までの一連の流れをメインミッションとして業務遂行いただく予定です。実験結果を踏まえてプロジェクトメンバーの分析、計算シミュレーション、ポリマー合成、事業部などの関係各部門との打合せを通して研究開発の方針を立案しますが、主体的に考え、行動いただくことを期待しています。
砥粒や添加剤などの材料と、圧力などの研磨条件が研磨にどのような影響を及ぼすかを研磨実験を通して調べ、それを基に新たな仮説を立てて検証するサイクルを回します。
その際、分析部門や計算シミュレーション部門、開発部などの人達を巻き込みながら、多角的な視点で現象をみつめる体制を整えています。
製品売上げの8割以上は海外の大手半導体メーカー向けであるため、材料開発のステージが上がると一般ニュースでも聞くような世界的な半導体メーカーと関わることができます。
このプロジェクトでは中長期目線の研究開発テーマとして研磨機構解明、それに基づく材用開発に焦点を当てていますが、ゆくゆくは前工程の別テーマも調査していく構想です。

必要スキル

応募資格
＜必須＞
・大学院修士以上レベルの化学一般の基礎知識、実験経験
・新しいことに挑戦するポジティブなマインドを有していること
・チームワークでの仕事に長け、他者の様々な考え方に柔軟に対応できること

＜歓迎＞
・ナノ粒子、無機酸化物の合成・表面処理・分散制御技術のいずれかの知識を有していること
・グローバルな感覚を有していること(TOEIC：600点以上目安)

就業場所

就業形態

正社員

企業名

化学メーカー

企業概要

化学メーカー

企業PR

業務カテゴリ

組織カテゴリ

事業会社

備考

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